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真空鍍膜系統(tǒng)價格多重優(yōu)惠
2021-06-18






真空鍍膜機(jī)

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。真空鍍膜機(jī)部件分析真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異,真空腔的大小也不一樣,目前應(yīng)用1多的有直徑1、3M、0、9M、1、5M、1、8M等,腔體由不銹鋼'target=_blank>。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。 對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材,并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來,并且終沉積在基片表面,經(jīng)歷成膜過程,終形成薄膜。

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi),也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。ST系列鍍膜機(jī)ST系列鍍膜機(jī)系我司標(biāo)準(zhǔn)化產(chǎn)品,滿足大部分實(shí)驗(yàn)室科研需求,豐富的可選配置也可響應(yīng)您的特殊需要。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。只要你把日常維護(hù)和定期維護(hù)做好了,在延長設(shè)備壽命的同時,生產(chǎn)過程中出現(xiàn)故障的幾率也大大降低。 具體因素也在下面給出。

以上內(nèi)容由艾明坷為您提供,今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關(guān)內(nèi)容,希望對您有所幫助!


真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域

1.在裝飾品方面

隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展和生活水平的提高,人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內(nèi)外裝飾件、五金箱包、手機(jī)殼、手機(jī)視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。

2.在刀具、模具等金屬切削加工工具方面

在生活中,我們會看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等,這些就是經(jīng)過鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。

(1)金黃色的,是在刀具上涂鍍了TiN、ZrN涂層,TiN是代應(yīng)用廣泛的硬質(zhì)層材料。

(2)黑色的,是在切削工具上涂了TiC、CrN涂層。

(3)鈷銅色的,是在刀具上鍍涂了TiALN涂層。

3.在建筑玻璃和汽車玻璃上

建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。

普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量,這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射,普通玻璃雖能阻止室內(nèi)的熱量直接透過室外,但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。

隨著經(jīng)濟(jì)的發(fā)展,普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求,而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。陽光控制膜可以滿足低緯度地區(qū)降低室內(nèi)溫度的要求;而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽輻射能量和1大限度阻止室內(nèi)熱量外流的要求。真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域在平板顯示器中所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且,幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求。

在玻璃上,鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃,這種工藝在汽車玻璃上有很好的應(yīng)用。

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在平板顯示器中

所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜,而且,幾乎所有類型的平板顯示器件都需要使用ITO膜,以滿足透明電器的要求??梢院敛豢鋸埖恼f,沒有薄膜技術(shù),就沒有平板顯示器件。

在太陽能利用方面

當(dāng)需要有效地利用太陽熱能時,就要考慮采用對太陽光線吸收較多、而對熱輻射等所引起的損耗較小的吸收面。太陽光譜的峰值大約在波長為2-20μm之間的紅外波段。由于太陽輻射與熱輻射光譜在波段上有差異,因此,為了有效地利用太陽熱能,就必須考慮采用具有波長選擇特性的吸收面。低溫冷凝:根據(jù)各種氣體的特性,采用液氦或者制冷循環(huán)氦氣來冷卻。

理想的選擇吸收面,是太陽輻射光譜的波段(可見光波段)吸收率(α)為1,在熱輻射波段(紅外波段)輻射率(ε)為0。

在防偽技術(shù)中

防偽膜種類很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

在飛機(jī)防護(hù)涂層方面

飛機(jī)的鈦合金緊固件,原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫,所以在飛行過程中,受到大氣、海水的腐蝕,鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”,甚至引起“空難”。

1964年,采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁,解決了飛機(jī)零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術(shù)中,由于給工件施加負(fù)偏壓,可以形成“偽擴(kuò)散層”、細(xì)化膜層組織,因此,可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。

在光學(xué)儀器中

人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測距儀,以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等,它們都離不開鍍膜技術(shù),鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

在信息存儲領(lǐng)域中

薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì),有其得天獨(dú)厚的優(yōu)勢:

由于薄膜很薄,可以忽略渦流損耗;磁化反轉(zhuǎn)極為迅速;與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。

為了更精密地記錄與存儲信息,必然要采用鍍膜技術(shù)。

在傳感器方面

在傳感器中,多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學(xué)量及其變化來說,極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外,其中,大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì),需要盡量增大其面積,且能工業(yè)化、低價格制作,因此,采用薄膜的情況很多。

在集成電路制造中

晶體管路中的保護(hù)層(SiO2、Si3N4)、電極管線等,多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)。可見,氣相沉積是制備集成電路的核心技術(shù)之一。

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